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芯片及器件失效分析

芯片及器件失效分析

所属项目:芯片及器件
所属行业:先进制造 - 半导体及电子器件

微谱芯片及器件领域技术服务

服务简 微谱失效分析平台是通过成分分析、材料特性表征、理化性能测试、显微缺陷精定位、破坏性物理分析、板级应力应变分析等手段,为芯片及器件领域提供研发、生产、市场失效问题综合解决方案。

服务内容

芯片及器件常见的失效模式:

晶圆失效:结晶缺陷、晶格缺陷、PN结参杂缺陷、外延层缺陷、介电材料缺陷、晶圆分层/划伤/崩边/开裂。  

芯片开路:冷焊、焊点开裂、绑线断裂、芯片分层/断裂、内线路开裂。

芯片短路:ESDEOS、过应力失效、闩锁效应、焊接短路、绑线搭接、腐蚀、电化学迁移。

主要分析手段:

无损分析技术:光学显微分析技术、X射线透视技术、三维透视技术、反射式扫描声学显微技术(C-SAM)

电测:连接性测试、电参数测试、功能测试、IV曲线测试

失效定位技术:显微红外热像技术、光发射显微分析 (EMMI)、砷化镓铟微光显微镜 (InGaAs)、激光电阻变化侦测(OBIRCH)

制样技术: 开封技术(机械开封、化学开封、激光开封)、去钝化层技术(化学腐蚀去钝化层、反应等离子刻蚀去钝化层RIE、机械研磨去钝化层)、微区分析技术(FIB、CP)

表面元素分析:扫描电镜及能谱分析(SEM/EDS)、俄歇电子能谱分析(AES)、X射线光电子能谱分析(XPS)、二次离子质谱分析(SIMS)

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